Chemical vapor deposition — химическое парофазное осаждение) — химический процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов. High Quality Content by WIKIPEDIA articles! CVD-процесс (англ. Как правило, при процессе CVD подложка помещается в пары одного или нескольких веществ, которые, вступая в реакцию и/или разлагаясь, производят на поверхности подложки необходимое вещество. Процесс часто используется в индустрии полупроводников для создания тонких плёнок. 2013. Часто образуется также газообразный продукт реакции, выносимый из камеры с потоком газа.