Основы анализа поверхности и тонких пленок. Физико-химический анализ
808 руб
Эти методы играютважную роль в развитии современной атомной технологии, особенно в областимикроэлектроники. Монография, написанная известными американскими специалистами в обла-сти атомных столкновений в твердых телах, посвящена физическим основам иметодам использования пучков ионов, электронов н рентгеновского излучениядля анализа структуры н состава тонких пленок вещества. Для специалистов, ннтересующнхся проблемами анализа поверхности н тон-ких пленок, аспирантов и студентов. Все вопросы изложены на высоком научном уровне. 2012. Воспроизведено в оригинальной авторской орфографии издания 1989 года (издательство "Мир").