Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий. Том 2. Технологические аспекты. М. Акуленок
363 руб
Во втором томе изложены технологические и конструктивные основы и особенности методов формирования и «сухого» травления на поверхности подложки тонких слоев и локальных областей проводящих, диэлектрических и полупроводниковых материалов в условиях уменьшения размеров элементов до нанометрового диапазона для интегральных технологий микро- и наноэлектроники, оптоэлектроники, микросистемной техники. Разделение данной книги на 2 тома обусловлено большим объемом материала, касающегося интегральных микро- и нанотехнологий; при этом каждый из томов представляет вполне cамостоятельный интерес. ru/id/1191099">методы легирования термической диффузией и ионной имплантацией, а также процессы фотолитографии. Рассматриваются эпитаксиальные процессы, процессы вакуум-термического и ионно-плазменного осаждения, ионного, ионно-химического и плазмохимического травления, термического окисления, 0.0101